RTA (Rapid Thermal Annealing)

离子注入工艺快速退火炉

Wafer-RTA(离子注入工艺快速退火炉)

规格

应用制程
快速退火
产品尺寸
4~8寸 wafer
加热单元
IR红外灯管+石英板
最高工作温度
1150℃
冷却后温度
45℃
温度均匀性
±5℃
升降温速率
100℃/s(裸片)
进出料方式
单张进出全自动Inline模式
开闭门方式
自动
传动方式
Robot
无尘等级
100 Class
软体功能
温度、时间、ID上报CIM/MES/ERP