旋转干燥机

我们是以晶圆清洗机、蚀刻设备、旋转干燥机等半导体制造设备为中心的制造商。
我们作为一家可以根据客户需求转机的公司,从小型研究机器到大规模生产的自动化设备。
我们还利用这些技术开发和制造LCD、PDP、有机EL、FED、LED等清洗设备。
所有产品都是内部制造的,因此我们可以以低廉的价格提供它们。
如果您对其他公司产品的维护有任何问题,请随时与我们联系。

旋转干燥机

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本机是用于晶圆等的旋转干燥机。将300mm以下的晶圆收纳在盒内,手动将2个盒或4个盒垂直装入,进行旋转干燥的旋转干燥机。

规格

型号 SPD100・200・400・600・800
4载体类型 (2载波类型也可用)
但是,8英寸和12英寸是2托架类型
转速 排水0~1200rpm(可变)
正常400~600rpm(可变)
干燥0~1200rpm(可变)
正常700~1000rpm(可变)
处理时间 排水0~999.9sec(可变)
干燥0~999.9sec(可变)
ULPA过滤器 0.1um、修复率99.9995%以上
气缸自动开闭
排气 带自动阻尼器,主体后部1处
轴密封剂 特殊密封
电源 3φAC200V 6KVA 50/60Hz

台式自旋干燥机(硅或化合物半导体)

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本机为台式旋转干燥机。 特别是150mm□以下的基板收纳在盒中,手动将2盒或4盒装填,进行旋转干燥的台式旋转干燥机

特点

它广泛用于8×6英寸组合使用,用于硅或化合物半导体晶片的少量加工,以及紧凑型桌面干燥。
操作非常简单,将晶圆放在转盘上后,只需放下顶盖并按下启动按钮即可安全地旋转干燥完成。

规格

型号 SPD100・200・400・600・800
4载体类型 (2载波类型也可用)
但是,8英寸和12英寸是2托架类型
转速 排水0~1200rpm(可变)
正常400~600rpm(可变)
干燥0~1200rpm(可变)
正常700~1000rpm(可变)
处理时间 排水0~999.9sec(可变)
干燥0~999.9sec(可变)
ULPA过滤器 0.1um、修复率99.9995%以上
气缸自动开闭
排气 带自动阻尼器,主体后部一处
轴密封剂 特殊密封
电源 3φAC200V 6KVA 50/60Hz