采用涡流溶解法（专利技术）积水和废弃水非常少，浓度上升速度快。臭氧水的浓度和流速在一分钟内稳定。涡流熔炼法是一种仅由生态设计设计的专利技术（专利6954645号）。

清洁臭氧水，无金属污染由于生态设计的独特技术，我们不使用金属作为液体接触部分。 可生产出适合半导体清洗的清洁无金属臭氧水。

满足广泛的需求臭氧水浓度高达100ppm，流量从1L/min到60L/min不等。 我们根据半导体工艺中对臭氧水的各种需求定制设备。

欢迎定制可根据使用工艺和设备定制。

型号（示例）	OWF-C45L30P	OWF-C5L30P
臭氧水浓度 （臭氧水生成能力）	最大100ppm	最大60ppm
臭氧水流量 （臭氧水生成能力）	最大60L/min	最大7L/min
臭氧水排放压力 （臭氧水生成能力）	最大0.15MPa	最大0.20MPa
原料酸素条件	圧力0.3MPa,純度99.5%以上（CO2またはN2にて調整）
原水条件	超纯水・纯水・自来水,0.25MPa,25℃以下
接触臭氧材料	石英玻璃,PFA,PTFE,红宝石
臭氧生成方法	静音放电方式
放电管冷却系统	水冷（内部散热器水冷）
外形尺寸	900W × 929D × 1881H （不包括突起）	611W × 590D × 1317H （不包括突起）
电源	AC100V±10%,50/60Hz
功耗	5kW	1kW
外部输入/输出	是
使用环境	气温5~40°C，湿度90%R.H.以下 室内，无结露，尘埃少