单片式清洗机 PWS2501

该设备应用于化合物半导体衬底的多腔连续式单片清洗机。通过刷洗和超声波等物理方法，以及使用化学药液清洗去除表面颗粒和金属污染等。

标准规格

上料
水中Loader
上料水中待机防止颗粒飞散
毛刷清洗
滚筒式毛刷（双面）
滚筒内喷水结构，防止污染堆积
物理清洗
超声波清洗
超声波造价高稳定性强
臭氧清洗
Max 5 L/min
臭氧浓度30ppm以上强氧化性配合酸洗
旋转干燥
Max 3000 rpm
高速干燥提高效率
腔室数
4 or 5（客制化）
连续单腔处理，防止同腔室的药液混入
机械手
2套
清洗前后专用机械手搬运，防止交叉污染

产品特点

  • 兼容6寸＆8寸化合物衬底晶圆
  • 各工艺具备独立清洗腔体，可避免交叉污染
  • 湿进干出，上下料由独立机械手搬运
  • 占地面积小，易维护